磁控離子濺射儀

產(chǎn)品介紹：

磁控離子濺射儀或是噴金儀是一種利用真空鍍膜技術(shù)開(kāi)發(fā)研制成高科技產(chǎn)品，作為掃描電鏡所需要的一款制樣儀器，可以配合掃描電子顯微鏡很方便的觀測(cè)試樣的微觀形貌，從而提高試樣的導(dǎo)電性和導(dǎo)熱性。磁控離子濺射儀為全閉環(huán)真空設(shè)計(jì)配有全量程皮拉尼真空計(jì)等多個(gè)傳感器實(shí)時(shí)監(jiān)控運(yùn)行狀態(tài)，保證儀器安全穩(wěn)定運(yùn)行。自動(dòng)磁控離子濺射儀采用高性能旋真空泵快速獲得<1Pa的真空環(huán)境，高精度的濺射電源采用恒流控制來(lái)保證高精細(xì)的膜層質(zhì)量。同時(shí)平面磁控測(cè)射陰極減少等離子體對(duì)試樣表面的轟擊和熱效應(yīng)，高性能的平面磁控濺射陰極可實(shí)現(xiàn)多種靶材的選擇 (Au、Pt、Ag、Pd等)，高精度的納米涂層為納米級(jí)別，可滿(mǎn)足現(xiàn)代分析實(shí)驗(yàn)要求。可用于制備高質(zhì)量的金屬薄膜、半導(dǎo)體薄膜、介電、絕緣材料薄膜以及復(fù)合薄膜、多層異質(zhì)結(jié)等。

應(yīng)用領(lǐng)域：

光學(xué)領(lǐng)域：中頻閉場(chǎng)非平衡磁控濺射技術(shù)應(yīng)用于光學(xué)薄膜（如減反射膜）、低輻射玻璃和透明導(dǎo)電玻璃；

微電子領(lǐng)域：用于沉積具有吸收、透射、反射、折射、偏振等功能的薄膜，如低溫下沉積氮化硅增透膜以提高太陽(yáng)能電池的光電轉(zhuǎn)換效率。

高溫超導(dǎo)薄膜、鐵電薄膜、巨磁阻薄膜等領(lǐng)域：磁控濺射技術(shù)在這些領(lǐng)域的研究中發(fā)揮著重要作用；

機(jī)械加工行業(yè)：表面功能膜、超硬膜和自潤(rùn)滑膜的表面沉積技術(shù)可有效提高表面硬度、復(fù)合韌性、耐磨性和高溫化學(xué)穩(wěn)定性，從而提高涂層產(chǎn)品的使用壽命。

產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)：

1、全自動(dòng)操作，簡(jiǎn)單易用，非常適用鎢燈絲、臺(tái)式掃描電鏡等

l濺射電流自動(dòng)調(diào)整?設(shè)定濺射電流后，系統(tǒng)自動(dòng)調(diào)節(jié)真空度，從而達(dá)到設(shè)定的濺射電流，調(diào)整時(shí)間＜5s，波動(dòng)范圍＜5%；無(wú)需按“實(shí)驗(yàn)"鍵調(diào)整濺射電流、無(wú)需操作“進(jìn)氣閥"。

l濺射時(shí)間自動(dòng)記憶?同類(lèi)樣品一次設(shè)定即可；

l參數(shù)改變自動(dòng)調(diào)整?濺射過(guò)程中可以隨時(shí)調(diào)整濺射電流和濺射時(shí)長(zhǎng)，系統(tǒng)自動(dòng)計(jì)算疊加，無(wú)需終止濺射過(guò)程；

l工作完成自動(dòng)放氣；

l樣品臺(tái)高度調(diào)節(jié)1秒完成；

l濺射過(guò)程可以利用曲線(xiàn)顯示，清晰直觀。

2、軟硬件互鎖，防誤操作，安全可靠

l真空度高于100Pa，啟動(dòng)真空保護(hù)，無(wú)法濺射；

l濺射電流高于50mA，停止濺射過(guò)程；

l真空泵工作時(shí)，系統(tǒng)無(wú)法進(jìn)行放氣操作；